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中科院自主研制新型紫外纳米压印光刻机,新型

十三日从中国科高校光电所获知,该所微电子专项使用设备研究开发团队独立研制作而成功紫外皮米压印光刻机。 据中国中国科学技术大学学光电技巧商量所微电子器具总体切磋室COO胡松介绍,该所自己作主研究开发的洋气光刻机,将皮米压印这一最新的高峰分辨力光刻本领,与有着低本钱、高效能特点的紫外线光刻工夫有机结合。 访员询问到,那套装置选取新型飞米对准本事,将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提高至飞米量级。对准是光刻设备三大基本目标之一,是完成成效化器件加工的首要性。该所在国家自然基金的总是援助下,完毕基于Moll条纹的高精度对准才干自己作主研究开发,获得专利20余项。 “该本事在光刻机中的成功应用突破了现有皮米尺度结构加工的瓶颈难题,为高精度飞米器件的加工提供了才能保证。”胡松说。 据说,该设施可遍布应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的张罗,具备广阔的应用前景,近日已到位初试和小批生产,并已在大学与商家客户中放大。

中国中国科学技术大学学光电本领商量所 新型光刻机进步微纳实用创制水平

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本报讯中科院光电所微电子专用设备研究开发公司,最近自己作主研制作而成功紫外飞米压印光刻机。该机器将新型微米压印高分辨力光刻技能与紫外光刻技艺有机结合,开支仅为海外同类设备的58%,并在平等加工平台上贯彻了飞米到皮米级的跨尺度图形加工,使国内微纳实用创设水平迈上新的阶梯。

光刻机是促成微纳图形加工的专项使用高级器械,它的面世使集成都电子通信工程大学路得以落地,引发了第二次工业革命,人类走入音讯时期。一直以来,发达国家对光刻机那样的计策性武装使用“禁运”和技术封锁,固然不禁运,光刻机也价格昂贵,严重制约了国内高档音信行当的向上。

微电子器材总体讨论室老总胡松代表,设备使用的时尚皮米对准技巧,成功将原光刻设备的对准精度由亚飞米量级升高至飞米量级,是兑现作用化器件加工的主要。其使用突破了现存皮米尺度结构加工的瓶颈难题,为高精度微米器件的加工提供了技巧保障。设备可分布应用于微纳流控微芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的盘算。

《中华夏族民共和国科学报》 (2015-03-24 第4版 综合)

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